模拟电子技术场效应管问题

如题所述

第1个回答  推荐于2016-12-01
当vGS>VT且为一确定值时,漏——源电压vDS对导电沟道及电流iD的影响与结型场效应管相似。
漏极电流iD沿沟道产生的电压降使沟道内各点与栅极间的电压不再相等,靠近源极一端的电压最大,这里沟道最厚,而漏极一端电压最小,其值为VGD=vGS-vDS,因而这里沟道最薄。但当vDS较小(vDS随着vDS的增大,靠近漏极的沟道越来越薄,当vDS增加到使VGD=vGS-vDS=VT(或vDS=vGS-VT)时,沟道在漏极一端出现预夹断。再继续增大vDS,夹断点将向源极方向移动。由于vDS的增加部分几乎全部降落在夹断区,故iD几乎不随vDS增大而增加,管子进入饱和区,iD几乎仅由vGS决定。追问

漏极电流iD应该是从漏极流向源极的,那不是应该源极电压小,漏极电压大吗?

追答

漏极电压比源极高,所以VGS〉VGD,S端沟道要比D端沟道厚

参考资料:http://wenku.baidu.com/view/0df6a427bcd126fff7050b7b.html

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