刀片的涂层有CVD和PVD两种，两者的区别是什么？

Question

如题所述

Answer 1

刀片的涂层有CVD和PVD两者的区别从方式，薄厚温度和运用三方面来看。

一，从方式看区别

CVD是化学气相沉积的方式。

PVD是物理气相沉积法的方式。

二，薄厚温度

CVD处理的温度为900℃~1100℃，涂层厚度可达5~10μm。

PVD处理的温度为500℃，涂层厚度为2~5μm，比CVD薄。

三，从运用看区别

CVD法适合硬质合金。

PVD法适用于高速钢刀具。

扩展资料：

刀具涂层制备技术可分为化学气相沉积(CVD)和物理气相沉积(PVD)两大类。CVD技术可实现单成分单层及多成分多层复合涂层的沉积,涂层与基体结合强度较高，薄膜厚度较厚,可达7~9μm,具有很好的耐磨性。

但CVD工艺温度高，易造成刀具材料抗弯强度下降;涂层内部呈拉应力状态,易导致刀具使用时产生微裂纹。CVD技术主要用于硬质合金可转位刀片的表面涂层。

与CVD工艺相比,PVD工艺温度低(最低可低至80℃),在600℃以下时对刀具材料的抗弯强度基本无影响;薄膜内部应力状态为压应力，更适于对硬质合金精密复杂刀具的涂层；PVD工艺对环境无不利影响。

PVD技术主要应用于整体硬质合金刀具和高速钢刀具的表面处理，且已普遍应用于硬质合金钻头、铣刀、铰刀、丝锥、异形刀具、焊接刀具等的涂层处理。

用CVD法涂层时，切削刃需预先进行钝化处理（钝圆半径一般为0.02~0.08mm，切削刃强度随钝圆半径增大而提高），故刃口没有未涂层刀片锋利。所以，对精加工产生薄切屑、要求切削刃锋利的刀具应采用PVD法。

涂层除可涂覆在普通切削刀片上外，还可涂覆到整体刀具上，已发展到涂覆在焊的硬质合金刀具上。据报道，国外某公司在焊接式的硬质合金钻头上采用了PCVD法，结果使加工钢料时的钻头寿命比高速钢钻头长10倍，效率提高5倍。

参考资料：百度百科——涂层刀具技术

                  百度百科——涂层刀具

Answer 2

CVD（化学气相沉积）和PVD（物理气相沉积）是刀片涂层中常用的两种技术，它们在原理、工艺和性能方面有一些区别。
区别如下：
1. 原理：CVD涂层是通过在化学反应气氛中使反应气体沉积在刀片表面形成薄膜。反应气体在表面发生化学反应，形成所需的化合物薄膜。而PVD涂层是通过在真空环境中蒸发或溅射源材料，然后使其沉积在刀片表面。PVD是基于物理过程，不涉及化学反应。
2. 工艺条件：CVD通常需要高温进行，一般在500°C至1000°C之间，以促进化学反应的发生和薄膜沉积。相比之下，PVD工艺温度较低，一般在200°C至500°C之间。
3. 成膜速率：CVD通常具有较高的成膜速率，使得在相对较短的时间内形成较厚的涂层。而PVD的成膜速率相对较慢，通常需要更长的时间来达到所需的厚度。
4. 成膜均匀性：CVD涂层在大面积刀片上具有较好的均匀性，能够实现整体涂层。PVD涂层的均匀性可能受到限制，特别是在复杂形状或细小结构上。
5. 薄膜性能：CVD涂层通常具有较高的致密性和化学稳定性。它们在硬度、热稳定性和耐磨性等方面表现出色。PVD涂层的性能取决于所选择的材料和过程条件，但它们通常具有较高的硬度和较好的附着力。
6. 可用材料：CVD技术可用于制备多种类型的薄膜，包括金属、氮化物、碳化物和氧化物等。而PVD技术通常用于金属薄膜，如钛、铬和氮化物。