光刻机是干什么用的

如题所述

1. 光刻机是半导体芯片制造过程中不可或缺的关键设备。根据其应用领域,光刻机可以被分类为多种类型:其中包括用于生产集成电路芯片的晶圆级光刻机、应用于封键滚涂装的封装光刻机,以及用于LED生产领域的投影光刻机。
2. 在集成电路芯片生产领域,光刻机是中国半导体设备制造领域亟需突破的技术短板。目前,国内晶圆厂所需的高端光刻机仍需依赖进口。
3. 光刻机,也被称为掩模对准曝光机、曝光系统或光刻系统,是一种精密的半导体制造设备。在常见的掩模对准光刻技术中,光刻机的主要功能是对硅片上的光刻胶进行曝光,以实现图形转移。整个光刻工艺流程包括硅片清洗、烘干、涂底、旋涂光刻胶、软烘、对准曝光、后烘、显影、硬烘和刻蚀等多个步骤。光刻技术 essence is the use of light to create a pattern; it involves the application of a photosensitive agent onto the silicon wafer surface, followed by the transfer of the pattern from a mask (reticle) onto the photosensitive agent, temporarily replicating the device or circuit structure onto the silicon wafer.
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