笔记本电脑外壳磁控溅射镀抗电磁干扰薄膜(简称“抗emi薄膜”)工艺，因电磁屏蔽效果好、寿命长、膜层薄等优点而被广泛采用。为了达到设计的溅镀区域与非溅镀区域，可在溅镀过程中使用工装治具将需溅镀区域暴露出来，绝缘区域遮挡住来实现。考虑到在溅镀过程中的温升会导致塑胶外壳(材质多为pc+abs)有一定的变形，而现有治具为上、下盖扣合，下盖为一个水平面，上盖按下盖平面正常扣合，但塑胶产品是有一定的弧度，由于上盖和下盖扣合后会导致塑胶产品的弧度压平固定，因此经过溅镀受热形变和治具的压平的固定作业，会造成溅镀后的产品超出设计方向和范围。
因此有必要提供一种笔记本外壳溅镀遮蔽治具来解决上述问题。
技术实现要素：
新型的目的在于提供一种笔记本外壳溅镀遮蔽治具，可在不影响遮蔽效果的前提下，减少由于治具遮蔽型腔形状的问题导致的产品形变过大产生的报废情况，从而大大提高了溅镀良率。
新型解决其技术问题所采用的技术方案是：一种笔记本外壳溅镀遮蔽治具，其包括设有下溅镀腔的治具下盖和设有上溅镀腔的治具上盖，所述上溅镀腔和下溅镀腔组合形成用于放置产品的溅镀型腔；
所述治具下盖上还设有限位柱和若干导向柱，所述下溅镀腔包括下盖平面和若干下盖曲面，所述下盖曲面分别设置在下盖平面的四周；
所述治具上盖上还设有限位孔和若干导向孔，所述上溅镀腔包括上盖平面和若干上盖曲面，所述上盖曲面分别设置在上盖片面的四周。
具体的，所述导向柱设置在治具下盖的四角处。
具体的，所述导向孔设置在治具上盖的四角内。
具体的，所述限位柱与限位孔对应，所述导向柱与导向孔对应。
具体的，所述上盖曲面和下盖曲面均可根据产品的需求调节弧度和凹凸情况。
新型一种笔记本外壳溅镀遮蔽治具的有益效果是，通过治具下盖和治具上盖的配合，可以保证产品的固定效果，通过上盖曲面和箱盖曲面的配合，可在不影响遮蔽效果的前提下，减少由于治具遮蔽型腔形状的问题导致的产品形变过大产生的报废情况，从而大大提高了溅镀良率。
新型的笔记本外壳溅镀遮蔽治具的下盖的结构示意图；
是本实用新型的笔记本外壳溅镀遮蔽治具的上盖1.治具下盖，2.导向柱，3.限位柱，4.下盖平面，5.下盖曲面，6.治具上盖，7.导向孔，8.上盖平面，9.上盖曲面。
具体实施方式
现在结合附图对本实用新型作进一步详细的说明。这些附图均为简化的示意图，仅以示意方式说明本实用新型的基本结构，因此其仅显示与本实用新型有关的构成。
一种笔记本外壳溅镀遮蔽治具，其包括设有下溅镀腔的治具下盖1和设有上溅镀腔的治具上盖6，所述上溅镀腔和下溅镀腔组合形成用于放置产品的溅镀型腔；
所述治具下盖1上还设有限位柱3和若干导向柱2，所述下溅镀腔包括下盖平面4和若干下盖曲面5，所述下盖曲面5分别设置在下盖平面4的四周；
所述治具上盖6上还设有限位孔和若干导向孔7，所述上溅镀腔包括上盖平面8和若干上盖曲面9，所述上盖曲面9分别设置在上盖片面的四周。
具体的，所述导向柱2设置在治具下盖1的四角处。
具体的，所述导向孔7设置在治具上盖6的四角内。
具体的，所述限位柱3与限位孔对应，所述导向柱2与导向孔7对应。
具体的，所述上盖曲面9和下盖曲面5均可根据产品的需求调节弧度和凹凸情况。
该笔记本外壳溅镀遮蔽治具的工作原理：将产品放在治具下盖1中的下溅镀腔，使得产品底面与下盖平面4贴合，工人手持治具上盖6，对准导向柱2与导向孔7，垂直下降治具上盖6，此时，限位孔与限位柱3三面接触，限制治具上盖6的左右移动，直到治具上盖6与治具上盖6完全扣合，产品顶面与上盖平面8贴合，然后对产品进行溅镀工艺，对产品外表面磁控溅射镀抗电磁干扰薄膜，其中治具上盖6与治具下盖1压合固定和温度升高，使得产品会向四周进行形变扩大，而具有弧度的上盖曲面9和下盖曲面5既可以适应产品的形变，又可以保证产品的弧形表面，减少了产品形变过大产生的报废情况，从而大大提高了溅镀良率。
与现有技术相比，该笔记本外壳溅镀遮蔽治具，通过治具下盖1和治具上盖6的配合，可以保证产品的固定效果，通过上盖曲面9和箱盖曲面的配合，可在不影响遮蔽效果的前提下，减少由于治具遮蔽型腔形状的问题导致的产品形变过大产生的报废情况，从而大大提高了溅镀良率。
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